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  • [行业新闻] 美国实验室研发新型激光技术，有望大幅提升芯片制造效率

    美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室（LLNL）正在研发一种基于铥元素的拍瓦（petawatt）级激光技术，该技术有望取代当前极紫外光刻（EUV）工具中使用的二氧化碳激光器，并将光源效率提升约十倍。这一突破可能为新一代“超越EUV”的光刻系统铺平
    发布时间：2025-01-07   点击次数：15
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